نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ ٹارگٹ

نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ ہدف کی تفصیل

نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ کے اہداف عام طور پر تین پرتوں کے الیکٹرولائسز کے عمل کے بعد سمیلٹنگ اور کاسٹنگ کے ذریعے بنائے جاتے ہیں، نیز میکانیکل پروسیسنگ کی ایک سیریز جیسے پیسنے، لیتھنگ، رولنگ اور کٹنگ، جس کی پاکیزگی 99.5 فیصد سے 99.99 فیصد تک ہوتی ہے۔ نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ اہداف کے ذریعے پھٹی ہوئی پتلی فلموں میں کم درجہ حرارت پر انحصار، زیادہ مزاحمت، اعلیٰ حساسیت کا گتانک، اعلی برقی اور تھرمل چالکتا، بہترین آکسیڈیشن مزاحمت، یکساں مائیکرو اسٹرکچر، چھیدوں کے بغیر ہموار سطح اور اچھی پائیداری وغیرہ ہوتی ہیں۔ دیگر تمام ٹارگٹ کے مقابلے ، اس میں بہتر جسمانی اور کیمیائی خصوصیات ہیں۔ PVD یا CVD کوٹنگ انڈسٹری میں، Nickel Chromium Rotary Sputtering Targets اور اس کی فلمیں سطح کو مضبوط بنانے والی فلموں جیسے پہننے کی مزاحمت، پہننے میں کمی، گرمی کی مزاحمت، اور سنکنرن مزاحمت کے ساتھ ساتھ کم خارج ہونے والے گلاس، مائیکرو الیکٹرانکس، مقناطیسی ریکارڈنگ میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتی ہیں۔ ، سیمی کنڈکٹر اور پتلی فلم مزاحم اور دیگر اعلی کے آخر میں ٹیکنالوجی کی صنعتوں.

نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ ٹارگٹ تفصیلات:

نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ ٹارگٹ پکچرز:

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: نکل کرومیم روٹری سپٹرنگ ٹارگٹ، سپلائرز، مینوفیکچررز، فیکٹری، اپنی مرضی کے مطابق، تھوک، قیمت، کوٹیشن، برائے فروخت